A study of electromigrations in aluminum and aluminum-silicon thin film resistors using noise technique

DILIGENTI, ALESSANDRO;BAGNOLI, PAOLO EMILIO;NERI, BRUNO;
1989

Diligenti, Alessandro; Bagnoli, PAOLO EMILIO; Neri, Bruno; S., Bea; L., Mantellassi
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/11568/15448
 Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo

Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact