Tensile Ge microstructures for lasing fabricated by means of a silicon complementary metal-oxide-semiconductor process

Capellini, G.; Reich, C.; Guha, S.; Yamamoto, Y.; Lisker, M.; Virgilio, Michele; Ghrib, A.; El Kurdi, M.; Boucaud, P.; Tillack, B.; Schroeder, T.

doi:10.1364/OE.22.000399

Tensile Ge microstructures for lasing fabricated by means of a silicon complementary metal-oxide-semiconductor process / G. Capellini;C. Reich;S. Guha;Y. Yamamoto;M. Lisker;M. Virgilio;A. Ghrib;M. El Kurdi;P. Boucaud;B. Tillack;T. Schroeder. - In: OPTICS EXPRESS. - ISSN 1094-4087. - 22(2014), p. 399.

Autori interni:	G. Capellini C. Reich S. Guha Y. Yamamoto M. Lisker VIRGILIO, MICHELE A. Ghrib M. El Kurdi P. Boucaud B. Tillack T. Schroeder mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Autori:	G. Capellini;C. Reich;S. Guha;Y. Yamamoto;M. Lisker;M. Virgilio;A. Ghrib;M. El Kurdi;P. Boucaud;B. Tillack;T. Schroeder
Titolo:	Tensile Ge microstructures for lasing fabricated by means of a silicon complementary metal-oxide-semiconductor process
Anno del prodotto:	2014
Digital Object Identifier (DOI):	10.1364/OE.22.000399
Appare nelle tipologie:	1.1 Articolo in rivista

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http://hdl.handle.net/11568/498298

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